Ashing H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
2010.04.10 19:15
안녕하세여... 자료를 찾던중 도저히 모르겠어서 답변 부탁드립니다. 현재 H2 플라즈마로 표면 처리를 하고 있습니다. 그러나, 폴리머 계통이 잘 Ashing되지 않아, O2를 쓰려고 합니다. 몇몇 업체에서는 미량의 산소를 수소와 함께 쓰는 것으로 알고 있습니다. 그러나 산소와 수소가 섞이면 반응하는 것으로 알고 있어서 위험할 것 같아서 질문드립니다. 수소 플라즈마에 산소를 섞으면 얼마의 비율로 섞어야 하는지 궁금합니다. 정확한 수치가 없다면, 제가 찾아봐야할 관련자료라도 알려 주시면 고맙겠습니다. 감사합니다. 답변 꼭 부탁드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] | 75407 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19148 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67534 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89320 |
88 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22026 |
87 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22109 |
86 | Peak RF Voltage의 의미 | 22431 |
85 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22467 |
84 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22513 |
83 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22514 |
82 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22558 |
81 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22572 |
80 | CCP/ICP , E/H mode | 22580 |
79 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22701 |
78 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22851 |
77 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 22863 |
76 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 22946 |
75 | No. of antenna coil turns for ICP | 22964 |
74 | DC glow discharge | 23099 |
73 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23156 |
72 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23179 |
71 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23216 |
70 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23292 |
69 | Arcing | 23499 |