■ 질문 ===================================================================

운영자님 안녕하셨습니까.
오랬만에 들려봤는데 새로 올라온 글중 좋은질문과 답변이 많이 있어
잘 읽어 봤습니다.
한가지 궁금한것이 있습니다.
저는 요즘 QMA로 라디칼을 분석하고 있습니다.
그런데 분석을 하면서 몇가지 벼겡 부딪치게 되었습니다.
우선 첫번째로
저희는 ICP형 플라즈마 소스를 사용하고 있는데 과연 라디칼이 얼마나
형성이 될까하는 문제입니다. 다시 말씀드려서 HDP소스의 경우 해리율이 높다고들하는데 그 정도가 얼마나 될지...이온화율에 비하여 현저히 높은것인지가 궁금합니다. 이러한 질문을 드린 이유는 QMA로 라디칼을 분석하기위해서는 AMS 방법을 사용하게 되는데 이때 라디칼과 더불어 플라즈마로부터 입사되는 이온은(예; O radical 분석시 O ion) 무시할수 있는것인지가 의문입니다. 라디칼에 비하여 이온이 매우 작다면 라디칼 측정에 있어서 플라즈마로부터 입력된 이온을 무시할수 있을것 같지만 그렇지 않은경우라면 측정상의 오류를 가져오지 않을까하는 걱정이 생기더군여..
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두번째째 의문사항은 위 궁금증의 연장선일것 같습니다.
일반적으로 QMA를 이용하여 라디칼을 측정하면 CPS로 그 측정치를 얻을 수 있는데 ....
많은 논문에서는 이것을 density로 계산하여 표현한 것을 보았습니다.
물론 수식은 알고 계시는것처럼
        Is =a*@(Eb)*Ib*n*Vp
          - Is : QMA output current
          - a  : ?
          - @(Eb) : cross section for ionization of radical
          - Ib : electron beam current
으로 표현이 되는데 여기서 a 값을 구하는 방법에 대하여 궁금합니다.
어떻게 a 값을 구여 전류값을 density값으로 변환한것인지가 궁금합니다.
저는 현재 hiden사의 PSM을 사용하고 있는데 여기서 나오는 출력값을
density로 표현할 방법이 없어 궁리중에 있습니다.
더불어 octafluorocyclobutane gas 를 사용한 플라즈마내에 존재하는 라디칼의 충돌 단면적을 찾아볼만한 자료를 알고 계시면 알려 주셨으면 합니다.
넘 글을 장황하게 올린것 같아 죄송합니다.
그럼 수고하시구여...즐거운 하루 되십시오.

■ 답변 ======================================================================

오래전에 서울대학교 전기공학부의 황기웅 교수님과 함께 연구할 때 같이 일했던 김정훈 박사의 논문 한 부분을 인용합니다.

첨부된 그림 파일을 확인하세요~!!