Etch AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제

2022.08.22 14:09

박범훈 조회 수:469

안녕하세요, 처음으로 글을 써봅니다.

 

AlCu Etch시 Cl2, BCl3 , N2 3개의 gas를 이용하여 Etching 하고 있습니다만 Etch 후 검정색 점형태 혹은 가루같은 형태로 Dust가 남아있는 문제가 있습니다.

 

Dust 는 Copper 성분으로 생각되는데 확실하진 않습니다.

Wet으로 제거했던 경험이 있는데 Dry Etch로는 지울 수 없는건지요?

 

Etching 장비는 TCP형태입니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68692
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92267
128 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 615
127 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
126 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
125 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 607
124 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
123 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 603
122 plasma 공정 중 색변화 [1] 602
121 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 597
120 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 596
119 RF Sputtering Target Issue [2] file 594
118 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 593
117 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 591
116 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 589
115 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
114 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 586
113 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585
112 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 579
111 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 576
110 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 574
109 활성이온 측정 방법 [1] 572
쓰기
태그

Boards

XE Login