Plasma in general 플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
2018.04.12 21:14
1. 광전리에 의한 플라즈마의 생성에 관해서 궁금합니다.
2. hwp 플라즈마란 무엇이며 특징에 대해서 궁금합니다!
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75772 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19457 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56674 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68038 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90329 |
| 78 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22876 |
| 77 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 22929 |
| 76 | No. of antenna coil turns for ICP | 23001 |
| 75 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23013 |
| 74 | DC glow discharge | 23143 |
| 73 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23189 |
| 72 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23213 |
| 71 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23247 |
| 70 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23348 |
| 69 | Arcing | 23583 |
| 68 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23610 |
| 67 | self Bias voltage | 23814 |
| 66 | 플라즈마 쉬스 | 23820 |
| 65 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23883 |
| 64 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 23965 |
| 63 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24053 |
| » | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24104 |
| 61 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24182 |
| 60 | plasma와 arc의 차이는? | 24221 |
| 59 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 24391 |