질문 ::

플라즈마의 에너지원으로 주로 RF POWER를 사용하죠.
그런데, CHAMBER 전체의 임피던스와 RF GENERATOR의 출력
임피던스를 사이의 MATCHING을 RF MATCHER를 통해 REFLECT
POWER의 발생없이 CHAMBER의 CATHODE나 ANODE로 에너지
공급토록 하는 역할이 바로 RF MATCHER의 존재목적이 아닌가
싶습니다.
  여기서 제가 궁금한 사항은 가끔 MATCHING이 우리가 원하는 SPEC
대로 정합이 되지는 않죠. 즉,REFLECT POWER(반사파)발생이 커지
기도 하는데요..  이것이 특히 DRY ETCHING장치에서 PARTICLE이슈
와 관련하여 연관성이 있다고 볼 수 있을지요...
즉, REFLECT가 커지면 실제 플라즈마 상태가 불안정 상태를 의미하는
지요...  PARTICLE과 연관지어 이론적 설명을 부탁드립니다..

답변 ::

본란에서 matching system에 관한 설명을 이미 드린 적이 있으니 참고하기 바랍니다.
두번째 질문인 particle과 matching system과의 관계는 저희도 잘 알고 있지 못한 내용입니다.
구체적으로 얼마나 심각한 영향을 줄 것 인가를 예상하기가 어렵습니다. 당연히 안테나 앞의 quartz의
두께가 식각 장비에서 바뀌게 되면 이값은 matching에고 영향을 주게 될 것 입니다. 하지만 particle의
생성은 어떤 영향을 줄 것인가에 대한 연구가 많이 진행되어 있지는 않는 것 같습니다. 이유는 particle의
정도가 얼마나 심각한 가에 따라 다르겠지요. 아무튼 깊이 고려해 볼 문제 입니다. 감사합니다.