질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92244 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20162
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57162
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68684
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92244
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 328
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 447
726 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 356
725 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 676
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 579
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 386
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 391
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 227
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 778
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1368
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 272
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 434
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 353
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 169
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 206
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 602
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 435

Boards


XE Login