안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2566
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 13691
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49691
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61641
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80272
599 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 566
598 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 753
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 570
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 1143
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 119
594 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1635
593 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 677
592 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 830
» electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2367
590 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 479
589 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 975
588 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 832
587 플라즈마 챔버 [2] 550
586 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 657
585 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 1338
584 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 397
583 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1260
582 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 438
581 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 310

Boards


XE Login