안녕하세요. 에칭 장비 Eng'r로 근무중에 있습니다.

한가지 문의 사항이 있어서 이렇게 글을 작성하게 되었습니다.

 

Matcher에 연결되어 있는 60Mhz RF 케이블에서 발열현상이 나타나고 있습니다.

 -> 케이블 피복 온도가 70도 이상 상승.

RF 케이블의 발열 현상이 정상적인 현상인지 아니 설계적 약점이나 매칭 불안정에서 

나타나는 현상인지 궁금해서 문의드립니다.

그리고 케이블 발열 현상이 어떤 문제가 발생될수 있는지 문의 드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20174
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 509
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 329
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 450
726 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 356
725 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 680
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 579
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 386
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 392
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 228
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 783
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1370
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 272
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 436
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 354
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 169
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 206
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 604

Boards


XE Login