Others 형광등에서 일어나는 물리적인 현상

2004.06.19 17:02

관리자 조회 수:18526 추천:265

저도 형광등에서 일어나는 물리적인 형상에 관해서 경험이 없기 때문에 전반적인 설명은 방명록 번호 97, 98번에 나와있는 것을 참고하시기 바랍니다.
참고로 뚱단지님의 형광등에 대한 설명에서 제가 몇가지를 수정/보완 할까 합니다.

1. "Ion의 Implantation에 의해 검게 코팅이 되는 효과가 나타난다"고 하셨는데 제 생각에는 Film Coating이라고 생각됩니다. Implantation은 높은 에너지의 이온을 필요로 하지요.

2. "이 대 주파수를 주는 것은 이온이 충분히 반응할 수 있을 만큼 줌으로써 Self Bias현상은 나타나지 않게 한다."이라 했는데 이온의 운동을 무시할 정도의 주파수는 플라즈마 조건에 따라 틀리지만 최소 수백 kHz 이상이 되어야만 한다고 새악ㄱ합니다. 인버터에서 그 정도의 주파수를 만드는지는 모르겠습니다. 그리고 Self Bias현상은 잘 애해가 되지 않는군요. 방명록의 이전 Q&A를 찾아보면 성명이 나오니가 참고하십시요.

3. "이온이 형광램프의 벽을 치기 전에 극성이 바뀌어 이온과 벽과의 충돌횟수가 줄어들어 검게 변하는 현상이 줄어든다." 앞서 설명한 것처럼 수백 kHz 이상이 되지 않으면 이온과 벽과의 충돌횟수가 줄어드는 효과를 볼 수 없습니다.

4. RF 플라즈마의 전위는 입력전력에 따라 변할 수 있습니다. 그리고 플라즈마의 on/off 현상은 대체로 주파수가 100kHz 이하에서는 플라즈마가 on/off 된다고 합니다. 그러나 100kHz는 절대값이 아니고 Chamber의 크기 Discharge의 종류에 따라 달라질 수 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76713
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20169
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68693
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92269
41 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5146
40 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4175
39 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3953
38 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3745
37 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3442
36 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3411
35 질문있습니다. [1] 2569
34 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1561
33 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1444
32 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1423
31 플라즈마 관련 교육 [1] 1405
30 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1387
29 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1286
28 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1239
27 Group Delay 문의드립니다. [1] 1144
26 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
25 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1114
24 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1030
23 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 957
22 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 947

Boards


XE Login