질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93544 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77898
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20777
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57693
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69194
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93544
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 216
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 311
754 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 654
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [Glow discharge process 이해] [1] 741
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 286
751 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 492
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 347
749 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 856
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 459
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 930
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 897
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 536
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 366
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 332
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 559
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 435
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 584
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 822
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 752
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 491

Boards


XE Login