안녕하십니까

서울과학기술대학교에서 external DC voltage biasing을 이용한 여러 어플리케이션에 대해서 연구하고 있는 학생입니다.

먼저 플라즈마는 RF plasma이며 바이어싱을 걸어주기 위해 파워서플라이와 저항을 이용하여 회로를 구성하였고 바이어싱이 걸리는 기판은 일반적인 탐침이 아님 Planar한 Steel substrate입니다.

기판에 바이어싱이 걸리는지 확인하기 위해 Langmuir probe의 원리를 이용하여 기판에 도달하는 전류를 측정하려고 하는데 저희의 경우 Remote 플라즈마를 사용하고 있기 때문에 플라즈마로 기판이 직접 들어가는 것이 아니라 플라즈마 발생지점 수직선상으로 밑에 위치하게 됩니다.

이런 경우에도 Langmuir probe의 이상적인 I-V Characteristics가 나타나는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 381
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 141
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 368
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 222
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 719
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1289
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 262
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 405
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 353
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 168
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 199
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 571
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 420
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 391
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 594
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 304
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 965
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 572

Boards


XE Login