안녕하세요. 교수님.

국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.

설비를 운용하다 궁금한 사항이 있어 문의드립니다.


1. RF Bias에 의해 etch가 진행되는 경우, wafer가 안착되는 Chuck의 면적과 Etch량과의 상관관계가 있는지 문의드립니다.

  

2. 1번과 비슷한 질문입니다. 12inch /8inch 2wafer가 아닌 Panel type의 etch를 진행할 때,

    가로와 세로의 길이가 다른경우(ex 300x400mm), 300mm의 edge면과 400mm의 edge면의 E/A가 달라질 수 있는건지 문의드립니다.


항상 도움이되는 답변감사드립니다.

즐거운 하루 보내세요.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 381
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 141
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 368
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 222
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 719
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1289
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 262
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 405
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 353
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 168
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 199
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 571
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 420
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 391
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 594
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 304
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 965
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 572

Boards


XE Login