Plasma in general O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다.

2020.05.28 12:04

김병진 조회 수:6436

안녕하세요. 저는 반도체 업종에서 근무하고 있습니다.

궁금한 점이 있어 질문드립니다.

Amorphous carbon 을 O2 분위기하에서 플라즈마 처리 할 경우 제거되는 지 궁금합니다.

또한 TIN 막을 H2 plasma 처리 할 경우 질소가 제거 된 TI가 되는 지 궁금합니다.

챔버 내 대기압 또는 진공상태가 위의 결과에 영향을 크게 미치는 지 궁금합니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 516
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 330
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 452
726 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 357
725 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 681
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 579
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 386
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 185
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 393
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 228
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 785
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1377
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 273
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 436
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 354
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 169
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 206
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 605
쓰기
태그

Boards

XE Login