안녕하세요

접착력 증가를 위한 플라즈마 처리를 하고 있습니다.

문제는 불소계필러가 들어간 이미드 필름을 에폭시에 붙이려하는데 잘되지 않아서 

표면처리 후 접착력을 증가시켜 보려고합니다.

현재 Ar+H2 로 하고있고 접착력이 증가하긴 하지만 탁월한효과는 못보고있습니다.

혼합가스를 바꾸어보라는 말도있고 소스를 바꿔보라는 말도있던데 

혼합가스 종류나 다른 방법이있을까요 ? 


궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [110] 4861
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16198
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51246
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63738
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83485
616 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 419
615 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 421
614 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 427
613 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 427
» 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 432
611 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 436
610 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 436
609 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 437
608 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 439
607 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 441
606 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 442
605 활성이온 측정 방법 [1] 446
604 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 446
603 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 447
602 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 448
601 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 449
600 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 454
599 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 455
598 anode sheath 질문드립니다. [1] 456
597 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 460

Boards


XE Login