Process 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다
2020.09.05 00:10
안녕하세요
저는 직장인입니다
회사에서 OLED쪽 CVD 장비유지보수 업무를 하고있습니다
그동안 플라즈마 연구실에서 궁금한거 눈팅만 하다가 이번에는 없어서 직접 질문드립니다
보안에 위배될까봐 자세히는 적지 못 합니다 이해 부탁드립니다.
증착 중 부속 장비의 알람 발생으로 증착 중 RF Power 및 가스 Flow가 중단되어 증착이 중단됩니다
Alarm 발생 Glass를 살리기 위해 Glass 제전(전극과 Glass 간격을 벌려줌) 후 추가증착을 진행(추가증착시 전극에 Glass 안착 후)하는데
이 추가증착 진행 Glass에서 흰얼룩(뿌연얼룩/방사형얼룩)이 발생됩니다
이것을 해결 하기 위한 방법이 있을까요?
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68679 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92193 |
| 727 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24320 |
| 726 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24302 |
| 725 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24171 |
| 724 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24121 |
| 723 | self Bias voltage | 24026 |
| 722 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23970 |
| 721 | 플라즈마 쉬스 | 23933 |
| 720 | Arcing | 23790 |
| 719 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23756 |
| 718 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23436 |
| 717 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23378 |
| 716 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23329 |
| 715 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23260 |
| 714 | DC glow discharge | 23243 |
| 713 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23120 |
| 712 | No. of antenna coil turns for ICP | 23092 |
| 711 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23054 |
| 710 | CCP/ICP , E/H mode | 22968 |
| 709 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22939 |
| 708 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22850 |