안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20169
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68692
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92268
728 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24329
727 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24306
726 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24172
725 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24122
724 self Bias voltage 24030
723 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23973
722 플라즈마 쉬스 23934
721 Arcing 23800
720 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23758
719 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23439
718 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23381
717 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23332
716 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23260
715 DC glow discharge 23245
714 고온플라즈마와 저온플라즈마 23124
713 No. of antenna coil turns for ICP 23094
712 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23058
711 CCP/ICP , E/H mode 22975
710 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22940
709 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22851

Boards


XE Login