교수님, 안녕하세요.


반도체 회사에서 공정 개발을 하는 연구원입니다.

교수님께 ESC Chuck 의 활용(?) 에 관한 질문을 드리고자 글 남기게 되었습니다.


현재 ICP Coil 을 이용하여 reactant gas 를 radical 로 만들어서 wafer 위에서 반응을 유도하고 있습니다.

하지만, 현재 chamber 조건이 공정상 몇 가지 단점을 갖고 있어 이를 개선하려는 업무를 진행 중 의문이 생겼습니다.

개선을 위한 condition (온도, 압력) 에서는 화학흡착 즉, chemisorpsion 이 되지 않는 결과를 확인하였습니다.

(온도, 압력만 변화. 관련 논문도 확인)


이를 극복하는 방안으로, ESC Chuck 을 사용하여, radical 을 강하게 wafer 로 끌어오면 어떨가 하는데,

가장 큰 고민이, boosted radical 이 wafer 에서 물리적 가속외에 화학적 흡착에도 영향을 줄 수 있다는 근거를 찾기가 어렵습니다.


혹, 교수님께서 관련해서 조언해주실 수 있으시면 업무에 큰 도움이 될 것 같습니다.


감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [46] 963
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 748
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49342
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 58726
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 72988
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 497
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 426
» ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4040
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 342
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1033
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 358
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 1325
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 320
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 2674
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 416
558 알고싶습니다 [1] 312
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1229
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 241
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 256
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 1423
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1050
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 1737
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 253
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 653
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 773

Boards


XE Login