Plasma Source ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다.
2020.12.27 15:04
안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.
ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면
RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요
Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76679 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57151 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68673 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92189 |
| 727 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24320 |
| 726 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24302 |
| 725 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24171 |
| 724 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24120 |
| 723 | self Bias voltage | 24026 |
| 722 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23970 |
| 721 | 플라즈마 쉬스 | 23932 |
| 720 | Arcing | 23790 |
| 719 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23756 |
| 718 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23436 |
| 717 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23377 |
| 716 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23329 |
| 715 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23259 |
| 714 | DC glow discharge | 23242 |
| 713 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23120 |
| 712 | No. of antenna coil turns for ICP | 23091 |
| 711 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23054 |
| 710 | CCP/ICP , E/H mode | 22967 |
| 709 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22939 |
| 708 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22849 |