CCP anode sheath 질문드립니다.

2021.07.15 08:42

해운대온천 조회 수:511

안녕하십니까. 플라즈마 관련 회사를 다니는 사람입니다.

 

쉬스에 관해서 조금 공부를 하고 있습니다..

 

1. ccp방식에서 전극을 캐소드, 애노드 라고 표현하는 이유를 알고 싶습니다. 배터리와 같은 관점으로 전류가 나오는 곳을 캐소드라고 하는건가요?

 

2. 캐소드 쉬스가 애노드 쉬스 보다 두꺼운 이유는 무엇인가요?(단순히 A/C ratio때문인지...?), 두 전극의 면적차이가 같을 경우에도... 쉬스의 두께 차이가 존재하나요?

 

인터넷으로 블로그에 나와있는 글을 봤는데 거기서는, "양이온은 애노드로 접근하기 힘들겠지만, 전자들은 이보다 훨씬 빠르게 애노드로 들어갈수 있기 때문에, 그만큼 애노드에서는 중화되버리고, 전위의 차이가 매꿔지게 된다. 즉 , 쉬스 포텐셜의 차이가 줄어들게 되고, 얇은 쉬스가 될수 밖에 없다" 라고 되어있더라구요... 오히려 더 헷갈리는거 같습니다..

 

(쉬스라는것은 전자와 이온의 속도차이에 의해서, 전극 표면에 쌓인 음전하들로 대전되어, 전위가 플라즈마 보다 낮고, 전자는 들어가기 힘들고, 양이온은 많이 들어가는... 그러한 공간을 말하는것 아닌가요?)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5591
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16868
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51345
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64201
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84176
631 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23107
630 Arcing 23081
629 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23067
628 self Bias voltage 23042
627 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23031
626 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23007
625 plasma와 arc의 차이는? 22852
624 DC glow discharge 22848
623 No. of antenna coil turns for ICP 22788
622 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22727
621 고온플라즈마와 저온플라즈마 22699
620 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22698
619 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22597
618 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22411
617 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] 22409
616 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22402
615 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22360
614 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22327
613 Peak RF Voltage의 의미 22186
612 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22178

Boards


XE Login