OES CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다.
2021.07.16 18:01
현재 BTO 박막을 CF4/Ar gas 를 이용하여 플라즈마 식각을 진행하고 있습니다.
OES 분석을 위해 CF3 파장이 필요한데 제가 가지고 있는 data에 없어서 이렇게 문의 드립니다.
혹시 OES 분석이나 실험 분석에 사용했던 CF3의 파장이 있으시다면 알려주실수 있으신가요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68679 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92195 |
727 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24320 |
726 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24302 |
725 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24171 |
724 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24121 |
723 | self Bias voltage | 24026 |
722 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23970 |
721 | 플라즈마 쉬스 | 23933 |
720 | Arcing | 23790 |
719 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23756 |
718 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23436 |
717 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23378 |
716 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23329 |
715 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23260 |
714 | DC glow discharge | 23243 |
713 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23120 |
712 | No. of antenna coil turns for ICP | 23092 |
711 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23054 |
710 | CCP/ICP , E/H mode | 22968 |
709 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22939 |
708 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22851 |