ICP ICP 대기압 플라즈마 분석
2021.11.11 14:47
안녕하세요. 교수님,
합성을 목적으로 두고 있는 5kW, 13.56MHz RF generator, ICP coil 을 이용해 대기압 플라즈마를 생성할 때 플라즈마 특성을 분석을 하고 싶은데, 일반적으로 많이 사용하는 RGA는 진공 환경에서 작동되는 것으로 알고있습니다. 관련 내용을 홈페이지에서 검색해 보니 2004년도에 교수님께서는 탐침과 OES 등을 이용해 분석하셨다고 쓰여있는데,
1. 혹시 그 동안 분석 방법에 대해서 발전된 것이 있는지,
2. 여전히 같은 방법으로 사용하고 계시다면 탐침과 OES로 어떤 것을 사용하였는지
제가 고체 물리 전공이지만 시료 합성을 위해 PECVD 관련 내용을 공부한지 얼마 안돼 관련 전공 지식이 많이 부족한 상태입니다. 추가적으로 해당 모델에 대해서 제가 공부하기 좋은 내용을 추천해 주시면 감사하겠습니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76722 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20172 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57165 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
| 728 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24331 |
| 727 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24307 |
| 726 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24172 |
| 725 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24122 |
| 724 | self Bias voltage | 24031 |
| 723 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23973 |
| 722 | 플라즈마 쉬스 | 23934 |
| 721 | Arcing | 23802 |
| 720 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23758 |
| 719 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23439 |
| 718 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23382 |
| 717 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23332 |
| 716 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23261 |
| 715 | DC glow discharge | 23246 |
| 714 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23124 |
| 713 | No. of antenna coil turns for ICP | 23096 |
| 712 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23059 |
| 711 | CCP/ICP , E/H mode | 22976 |
| 710 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22941 |
| 709 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22852 |
OES 신호 해석은 일반적인 모델을 활용하시기 바랍니다. plasma spectroscopy 에서 찾아 보시고 collisional plasma 조건 해석 LTE 모델이 좋을 것 같습니다. 관련해서 연구를 많이 진행하고 있는 연구실이 있어 추천드립니다. 제주대학교, 최수석 교수님과 전북대학교 서준호 교수님을 추천합니다.