Remote Plasma Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해]

2023.12.18 02:36

Lkh 조회 수:1097

안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79459
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21313
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58112
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69673
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94538
764 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 400
763 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 486
762 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 252
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 327
760 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] 789
» Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1097
758 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 188
757 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 555
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 229
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 356
754 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 755
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [Glow discharge process 이해] [1] 809
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 314
751 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 574
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 372
749 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 934
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 493
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1020
746 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1016
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 575
쓰기
태그

Boards

XE Login