Matcher MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?

2008.10.23 12:22

바람그만필께 조회 수:22175 추천:425

안녕하세요.

삼성전자 반도체 사업장에서 일하는 DIFF PROCESS ENG'R 입니다.

얼마 전에 사내 PLASMA 강의를 듣고 사이트를 알게 되었습니다.

M.N. (Matching Network) 에서 R.F 인가시 Backword bias 가 걸리는 이유가 알고 싶습니다.

SLEF BIAS 하고 연관이 있는 건지요?

SELF BIAS 가 걸린 것이 Backword bias 처럼 보이는 건지 실질적으로 Backword Bias 가 형성되는  건지 알고 싶습니다.

대학에서 재료공학을 전공해서 전자공학에 대해 무지합니다.

교수님의 답변 기다리겠습니다.

감기 조심하시고 건강하세요...

번호 제목 조회 수
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48919
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 56111
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 63532
535 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 315
534 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 317
533 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 317
532 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 318
531 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 320
530 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 320
529 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 320
528 활성이온 측정 방법 [1] 321
527 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 330
526 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 331
525 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 335
524 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 339
523 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 340
522 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 348
521 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 352
520 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 368
519 교수님 질문이 있습니다. [1] 370
518 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 371
517 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 373
516 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 380

Boards


XE Login