Diamond tip으로 insulator, semiconductor, conductor를 긁어서 깨뜨리는 경우, 3 경우 모두 플라즈마가 생기고 이 때 insulator>semiconductor>conductor 순으로 electron 의 에너지가 높은 것으로 알려져있습니다.

( insulator : several hundred to keV,  semiconductor : 0~100 eV,  conductor : negligible )

저는 Ceramic Powder (Y2O3 ~900nm) 를 아음속으로 기판에 분사시켜서 증착하는 Aerosol Deposition 중에도 플라즈마가 생기는 것을 PMT 센서로 계측하고, 이를 증착에 미치는 영향과 연관시키려고 합니다.


질문 사항은 다음과 같습니다.

1. 일반적으로, E-field를 가해서 플라즈마를 생성할 때, electron energy 가 어느 정도 쯤 되나요?

Tribo-Plasma 가 발생하면서 생겼다고 주장하는 keV의 높은 에너지의 전자도 Tribo-Plasma에 의한 것으로 생각할 수 있을까요? 아니라면 다른 어떤 요인이 있을까요?


2. 상온 대기압 하에서 수 keV의 전자가 방출된다면 이 전자는 몇 m 의 거리를 움직일 수 있을까요? 그것을 대략적으로 계산할 수 있는 식은 어떤 것이 있을까요?


3. 플라즈마가 생겼다면, light emission 을 동반할 것이기 때문에, 200~780 nm 의 광을 측정할 수 있는 PMT 센서로 계측 중입니다. PMT Sensor가 기판으로부터 약 3~4cm 정도 떨어져있는데, 특정 조건(증착 조건 : 분말이 깨지는 조건)에서 오작동을 합니다. 수 keV의 전자가 방출되었을 때 계측기에 영향을 미칠 수 있을까요? 


4. 수 um 영역에서 플라즈마가 생겼을 경우 이 때 생성되는 열에너지가 어느 정도가 될까요? 온도가 어느 정도로 증가할까요?

Ceramic 이 깨질 때 형성되는 E-field 는 약 4.4*10^5 V/cm 라고 합니다. 주변 분위기는 Air 로 유지되고 있습니다.


감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2291
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12763
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49612
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61083
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78323
599 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 363
598 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 369
597 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 372
596 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 374
595 활성이온 측정 방법 [1] 376
594 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 381
593 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 382
592 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 383
591 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 385
590 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 388
589 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 391
588 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 395
587 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 395
586 RF matcher와 particle 관계 [2] 398
585 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 401
584 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 402
583 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 406
582 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 408
581 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 416
580 RF 전압과 압력의 영향? [1] 417

Boards


XE Login