안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
723 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 391
722 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 395
721 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 399
720 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 405
719 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 420
718 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 421
717 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 423
716 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 425
715 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 426
714 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 429
713 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 437
712 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 438
711 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 441
710 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 442
709 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 444
708 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 445
707 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 450
706 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 455
705 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 456
704 plasma striation 관련 문의 [1] file 462

Boards


XE Login