|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[268]
| 76726 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20174 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57166 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68696 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92275 |
|
729 |
ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
[1] | 24331 |
|
728 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 24307 |
|
727 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24172 |
|
726 |
플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
| 24122 |
|
725 |
self Bias voltage
| 24031 |
|
724 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
| 23973 |
|
723 |
플라즈마 쉬스
| 23934 |
|
722 |
Arcing
| 23802 |
|
721 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23758 |
|
720 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 23439 |
|
719 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23382 |
|
718 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23332 |
|
717 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23261 |
|
716 |
DC glow discharge
| 23246 |
|
715 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 23124 |
|
714 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 23096 |
|
713 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 23059 |
|
712 |
CCP/ICP , E/H mode
| 22976 |
|
711 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22941 |
|
710 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22852 |
