Process 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다
2020.09.05 00:10
안녕하세요
저는 직장인입니다
회사에서 OLED쪽 CVD 장비유지보수 업무를 하고있습니다
그동안 플라즈마 연구실에서 궁금한거 눈팅만 하다가 이번에는 없어서 직접 질문드립니다
보안에 위배될까봐 자세히는 적지 못 합니다 이해 부탁드립니다.
증착 중 부속 장비의 알람 발생으로 증착 중 RF Power 및 가스 Flow가 중단되어 증착이 중단됩니다
Alarm 발생 Glass를 살리기 위해 Glass 제전(전극과 Glass 간격을 벌려줌) 후 추가증착을 진행(추가증착시 전극에 Glass 안착 후)하는데
이 추가증착 진행 Glass에서 흰얼룩(뿌연얼룩/방사형얼룩)이 발생됩니다
이것을 해결 하기 위한 방법이 있을까요?
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76538 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91694 |
724 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24295 |
723 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24257 |
722 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24159 |
721 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24120 |
720 | self Bias voltage | 23992 |
719 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23959 |
718 | 플라즈마 쉬스 | 23922 |
717 | Arcing | 23740 |
716 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23717 |
715 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23423 |
714 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23371 |
713 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23317 |
712 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23254 |
711 | DC glow discharge | 23225 |
710 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23101 |
709 | No. of antenna coil turns for ICP | 23079 |
708 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23038 |
707 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22930 |
706 | CCP/ICP , E/H mode | 22920 |
705 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22838 |