47th American Vacuum Society International Symposium 2000
2004.06.19 16:04
관리자가 주정훈 교수님을 대신해서 파일을 올립니다.
주정훈 교수님께서 2000 AVS 에 관한 파일을 보내주셨습니다.
교수님의 학회참석 소감과 학회내용에 대한 간단한 소개가 있습니다.
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| 516 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22137 |
| 515 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 22134 |
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| 512 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [1] | 22100 |
| 511 | self Bias voltage | 22012 |
| 510 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 21988 |
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| 506 | 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 | 21579 |
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| 502 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 21429 |
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