질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:93356 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77679
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20699
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57625
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69123
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93356
36 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 177
35 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 176
34 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 167
33 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 163
32 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 159
31 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 159
30 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 157
29 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 156
28 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 156
27 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 152
26 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [2] file 150
25 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 137
24 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 133
23 플라즈마 설비에 대한 질문 132
22 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 122
21 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 119
20 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] 117
19 플라즈마 사이즈 측정 방법 [1] 111
18 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 111
17 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 102

Boards


XE Login