안녕하세요 

 

현재 기업에 다니고 있는 회사원입니다 

표면처리기술 과련 하여 공부하던 중 플라즈마 기술을 보고 문의드립니다 

 

1. water나 유기용매에 분산되어 있는 나노 입자에 플라즈마 처리 가능한가?

 

2. 30nm 이하의 분말형태의 시료에도 플라즈마 처리가 가능하가?

 

목표는 30nm 이하의 입자에 표면처리를 통해 특정 물성을 갖게 하는 것인데, 

입자 전체에 플라즈마 처리를 하고 싶은데 분말일때 플라즈마 처리가 고르게 이루어지지 않을 것 같아 

위와 같은 질문을 드립니다

 

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68691
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92265
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 397
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1006
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 586
703 self bias [1] 527
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 812
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 698
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 615
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1170
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 364
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1433
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 574
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 867
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 607
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 608
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28717
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 714

Boards


XE Login