Plasma in general 산소 플라즈마에 대한 질문입니다...
2018.11.15 10:26
이제 막 플라즈마에 대해 공부하고 있는 학생입니다.
산소와 아르곤 플라즈마를 이용해 물질을 처리하려고 하는데요
실험전에 아르곤플라즈마와 산소플라즈마를 조금씩 섞어줄 떄 온도 변화를 먼저 측정해 봤었는데요
산소를 섞어줄수록 중심으로부터 안테나부근의 온도들은 아르곤만 있었을 때보다 떨어졌으나
거의 챔버의 끝에서는 오히려 산소플라즈마를 섞은 것이 온도가 더 높게 측정되었습니다..
이유가 무엇일까요..?
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57157 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68677 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92193 |
| 193 | O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] | 6434 |
| 192 | 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] | 1897 |
| 191 | KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] | 445 |
| 190 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1235 |
| 189 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 587 |
| 188 |
Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다.
[1]  | 754 |
| 187 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1029 |
| 186 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1224 |
| 185 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 550 |
| 184 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1686 |
| 183 | glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] | 1501 |
| 182 | plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] | 3366 |
| 181 | 질문있습니다. [1] | 2568 |
| 180 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2117 |
| 179 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 734 |
| 178 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 740 |
| 177 | wafer bias [1] | 1127 |
| 176 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1143 |
| 175 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2184 |
| 174 | ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] | 3949 |