질문 ::
안녕하십니까??
플라즈마를 공부하는 학생으로서 여러가지 면에서 많은 도움을 받고 있습니다. 다름이 아니라 RF에 대하여 몇가지 질문이 있어 이렇게 문의를 드리게 되었습니다.
1) RF plasma에서의 plasma sustain mechanism은 sheath oscillation이라 고 책에서 보았는데,, 보충 설명을 부탁드리겠습니다.
2) 그리고 cathode 표면에 유도되는 self bias를 왜 DC 전위라 하는지,,
알고 싶고요,, Vrf = Vdc + V COS wt의 의미도 설명부탁드립니다.
3) 마지막으로 RF POWER 300W를 사용하여 방전실험을 하고 있는데,,
gauge에선 power값만 읽을 수 있는데,, 방전 전압과 방전 전류를 측정할수 있는 방법은 없을런지요??
두서없이 많은 질문을 한거 같은데,, 답변을 부탁드리겠습니다..
감사합니다.
답변 ::
안테나에 인가되는 전류 전압을 직접 측정하고자 한다면 안테나의 ground 단에 pierson coil등으로 전류를
측정할 수 있으며 인가되는 전압은 high voltage probe를 이용하여 측정합니다. 측정 위치는 모두
M/B 다음단과 안테나 사이에서 측정하여야 실제 안테나 load 전압/전류를 알수 있습니다. 혹은 V-I probe라는
장치를 M/B 전단, 즉 power supply와 M/B 사이에 연결하여 인가되는 전압/전류 곡선을 얻으며 smith chart를
통하여 현재 matching 여건을 확인 할 수 있습니다. 하지만 이들 값으로 실제 형성되어 있는 플라즈마의 전류
등에 대한 정보를 유추하기는 매우 어렵습니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20181 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68697 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92276 |
193 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1038 |
192 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1050 |
191 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1081 |
190 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1117 |
189 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1117 |
188 | wafer bias [1] | 1129 |
187 | 전자 온도 구하기 [1] | 1130 |
186 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
185 | 자기 거울에 관하여 | 1138 |
184 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1144 |
183 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1156 |
182 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1226 |
181 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1237 |
180 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1239 |
179 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1282 |
178 | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1291 |
177 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1331 |
176 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1345 |
175 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1352 |
174 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1388 |