안녕하세요?

플라즈마를 공부하고 있는 학생입니다. 질문이 있어서 이렇게 글을 남기게 되었습니다.

일반적으로 논문등을 살펴보게 되면 Ar fraction이 (예를들어 Ar(Cl2+Ar 혼합가스) 증가할 수록, Te(Electron Temperature)

값이 증가하는 경향이 나옵니다. (Ion Density 역시 증가합니다.)

실험을 하던 도중. Ar fraction이 증가할수록, Te값이 떨어지는 현상을 발견하였습니다.(하지만 Ion Density는 증가)

이를 어떻게 해석되어야 하는지 잘 모르겠습니다.

일반적으로라면 Ar이 이온화되면서 많은 gas reaction을 야기 하겠으나,

정형화된 data에 대하여 반대의 경향성이 나온 경우 어떻게 해석되어야 할까요?

 

추가적인 실험환경에 대한 설명을 덧붙여 드리자면,

(기존의 Chamber wall은 퀄츠 재질로 Ar fraction에 대하여 Te는 증가하였습니다. 하지만 Chamber를 Al 재질로 바꾼후

위와 같은현상이 발견되었습니다.)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2296
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12779
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49613
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61085
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78358
63 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2534
62 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3180
61 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 2817
60 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2340
59 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2182
58 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7412
57 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6064
56 고온 플라즈마 관련 7991
55 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6446
54 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7518
53 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 9872
» Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 14845
51 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 27918
50 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 30847
49 Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. 19973
48 H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] 19002
47 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 28875
46 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 16970
45 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 32284
44 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20631

Boards


XE Login