안녕하세요. 반도체 회사에서 근무하고 있는 엔지니어 입니다.

최근 설비이슈로 rf tune position 상승의 문제가 있는데 load는 변동이 없는데 유독 tune position만 상승합니다. 이때 Vrms는 tune과 반비례로 하강하는 trend를 보이는데, 


1. tune과 Vrms 의 상관관계가 어떻게 되나요?

2. 유독 tune이 상승하는 원인을 어디서부터 찾아야 할까요?


바쁘신 와중에 항상 도움을 주셔서 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76711
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57163
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68686
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92250
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 397
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 612
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1006
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 586
703 self bias [1] 527
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 812
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 698
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 615
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1170
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 364
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1433
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 574
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 867
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 607
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 608
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28717
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 714

Boards


XE Login