Remote Plasma RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의

2019.01.16 13:12

이기성 조회 수:756

안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.


현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.


사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.


헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다. 


골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68692
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92266
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 397
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1006
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 586
703 self bias [1] 527
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 812
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 699
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 616
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1170
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 364
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1433
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 574
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 867
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 607
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28717
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 714
쓰기
태그

Boards

XE Login