회원 가입했어요

 유용한 사이트 운영 감사 드립니다


 RPS(Remote plasma source) 에 들어가는 알미늄 부품 중기가

수출하고자 하는데요.

  이제품이 반도체 CVD CHAMBER MAKER에 들어가는 부품이라고 합니다


  CHAMBER 내부 구조도를 간략히 개념도로 알려 주실수 있나요?


 -챔버 내에 어느부위에 몇개가 들어 가는지요?

 - RPS 가 CVD 챔버에서 어떤 기능을 하는지요? 

- 세계적 선도 RPS 기업은 어디 인지요? 

-플라스마 여러 소스중 RPS 의 비중은 어느정도나 되나요?   채용시 장점은 ?


evision21 드림

trade consultanta  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
703 self bias [1] 514
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 745
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 677
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 601
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1114
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 353
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1404
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 566
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 169
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 831
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 590
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 599
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28680
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 383
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 701
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 725
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1122
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2357
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1025
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 729

Boards


XE Login