matcher를 봤을 때 직렬은 tune 병렬은 load라 튠값으로는 리액턴스를 로드 값으로는 저항성분에 대해 알 수 있다고 알고 있는데요

가끔 로드랑 튠 값이 흔들리고 산포가 좋지 않을 때가 있다합니다. 이렇게 값들이 흔들리는 이유로는 전체적으로 뭐가 있을까요?

또 plasma를 켰을 떄 매쳐의 로드와 튠 값에 영향을 주는 이자들은 무엇들이 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 437
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 398
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 614
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 315
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1010
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 589
703 self bias [1] 528
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 816
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 701
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 618
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1172
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 366
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1436
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 575
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 869
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28722
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 387

Boards


XE Login