Plasma in general 플라즈마 PIC 질문드립니다.

2020.08.04 23:19

palc 조회 수:10378

ICP구조에서 PIC 시뮬레이션을 하려고 합니다. 

 Ar+의 particle의 움직임을 관찰할 때 해석 time step의 size가 1/(plasma frequency)보다 작아야 한다고 알고있습니다.

이 때 Ar+의 입자를 분사하는 시간을 질문드립니다.

그리고 PIC관련 서적 추천 부탁드립니다.

감사합니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20179
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 435
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 398
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1008
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 586
703 self bias [1] 527
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 814
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 700
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 616
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1172
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 364
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1434
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 575
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 869
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28720
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
쓰기
태그

Boards

XE Login