안녕하십니까 교수님. 반도체 장비회사에서 공정개발 직무를 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마 식각기술 책을 읽는 와중에 궁금한 점이 생겨 이렇게 질문을 남깁니다.

 

책에서 접지된 전극에 기판을 놓을 경우 Radical에 의한 반응이 반응성 이온의 영향보다 크게 되고,

고주파 전극에 기판을 놓게 되면 반대로 되어 이방성이 커진다고 하는데 

 

집지된 전극에 기판을 놓을 경우 왜 Radical 반응이 주가 되는 건가요?

접지라는 것이 이 구조에서 어떻게 영향을 끼치는 것인지 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
707 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 466
706 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 468
705 plasma striation 관련 문의 [1] file 468
704 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 471
703 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 473
702 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 479
701 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 481
700 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 483
699 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
698 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 487
697 PECVD Uniformity [1] 492
696 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 497
695 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 499
694 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 499
693 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 512
692 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 516
691 self bias [1] 526
690 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 526
689 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 537
688 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 540

Boards


XE Login