질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:86030 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73033
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17617
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65699
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86030
30 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19031
29 CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19197
28 MFC 19217
27 석영이 사용되는 이유? [1] 19695
26 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19709
25 플라즈마 matching 19797
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20120
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 20942
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 20960
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21961
20 Peak RF Voltage의 의미 22278
19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22447
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22770
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23144
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24134
15 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24514
14 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24525
13 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24596
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25450
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25451
쓰기
태그

Boards

XE Login