Collision Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요?
2012.02.16 05:21
안녕하세요.
반도체업계에서 근무하는 김상완 사원입니다.
Sputter의 지식이 부족하여 질문 올립니다.
배경: PM후 Deporete Check까지는 이상이 없었습니다.
하루지나고 공정진행시에 반사율 및 Peak 이상 현상이 발생되고 있습니다.
질문: 공정 진행시에 VDC가 급격하게 상승하여 증착에 이상이 발생되고 있는것으로 보여지는데요.
Ar은 일정하게 주입되고 있고 다른것도 문제가 없습니다.
Sputtering 중 VDC가 405~420 가량 유지하다가,
갑자기 560~570으로 변화하는 이유는 무엇일까요....
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76681 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57152 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68673 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92189 |
193 | Light flower bulb | 17079 |
192 | RF에 대하여,, | 17037 |
191 | 형광등으로 부터 플라즈마의 이해 | 17000 |
190 | 플라즈마의 어원 | 16333 |
189 | 궁금해서요 | 16315 |
188 | 궁금합니다 [1] | 16174 |
187 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16023 |
186 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16009 |
185 | k star | 15955 |
184 | corona | 15886 |
» | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15885 |
182 | Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?.. | 15637 |
181 | 플라즈마와 비행기에 미쳤거든여....^ _ ^ ; | 15620 |
180 | 핵융합반응/플라즈마 | 15515 |
179 | 우주 플라즈마 | 15347 |
178 | 산업용 플라즈마의 특성 | 15156 |
177 | 우주 플라즈마 | 14785 |
176 | 우주에서의 플라즈마의 성분비 | 14585 |
175 | 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] | 14141 |
174 | 플라즈마의 상태 | 14075 |