안녕하세요,

반도체 회사에서 CVD 장비 업무를 맡고 있는 이윤재입니다.

업무 중 CCP Type Chamber에 Warpage 심화 Wafer가 투입되었을 때,

Impedance I 가 Drop 되는 현상이 있었습니다.

이 때 이 원인을 파악하려고 하는데, 논문이나 과거 자료를 봐도 나오지가 않아서

질문을 드립니다..

Q. Warpage 심화 Wafer가 상대적으로 Flat한 Wafer 보다 Impedance Drop이 되는 원인은,

   Edge 쪽 ( Wafer와 Heater가 Contact 되지 않음) 이 문제가 되는 것으로 추정되는데

  정확한 원인이 무엇인지 궁금합니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2361
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12953
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49619
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61116
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 79627
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 14994
558 알고싶습니다 [1] 452
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1448
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 319
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 353
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 1879
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1118
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 1896
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 339
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 937
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 1238
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 510
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10127
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 770
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 459
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 1133
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 218
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1026
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 573
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 1822

Boards


XE Login