안녕하세요. 교수님.

국내 반도체장비 업체에서 Plasma etch 설비를 운용하고 있는 연구원입니다.

설비를 운용하다 궁금한 사항이 있어 문의드립니다.


1. RF Bias에 의해 etch가 진행되는 경우, wafer가 안착되는 Chuck의 면적과 Etch량과의 상관관계가 있는지 문의드립니다.

  

2. 1번과 비슷한 질문입니다. 12inch /8inch 2wafer가 아닌 Panel type의 etch를 진행할 때,

    가로와 세로의 길이가 다른경우(ex 300x400mm), 300mm의 edge면과 400mm의 edge면의 E/A가 달라질 수 있는건지 문의드립니다.


항상 도움이되는 답변감사드립니다.

즐거운 하루 보내세요.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2361
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12953
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49619
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61116
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 79627
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 14994
558 알고싶습니다 [1] 452
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1448
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 319
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 353
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 1879
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1118
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 1896
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 339
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 937
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 1238
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 510
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10127
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 770
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 459
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 1133
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 218
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1026
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 573
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 1822

Boards


XE Login