OES Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.

2020.09.11 17:48

박지태 조회 수:3323

안녕하세요.


우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다


Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.

실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.

가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20182
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68698
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 715
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 737
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1060
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 762
683 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 980
682 RF Sputtering Target Issue [2] file 596
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 604
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1846
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 470
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 544
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 625
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 544
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1156
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1175
673 Plasma Arching [1] 1051
672 Polymer Temp Etch [1] 660
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 996
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 470
쓰기
태그

Boards

XE Login