Plasma Source 플라즈마 챔버

2021.03.18 20:01

도나츠바 조회 수:1205

안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.

 

플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.

 

혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요? 

 

아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?

 

위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.

 

너무 궁긍하여 글을 올립니다.

 

답변 부탁드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
683 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 951
682 RF Sputtering Target Issue [2] file 570
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 592
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1783
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 461
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 537
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 535
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1122
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1119
673 Plasma Arching [1] 1024
672 Polymer Temp Etch [1] 635
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 972
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 455
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1383
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1118
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 437
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 808
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 862
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 799

Boards


XE Login