Others ICP 후 변색 질문

2018.01.23 19:11

Wafer 조회 수:722

안녕하십니까.

현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.

ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.

BCl3 gas를 이용한  ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.

황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)

이와 관련.  

1. Oxygen의 숫자 부족

2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.

Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.

혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.

어떠한 내용이라도 좋습니다.

위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.

ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
82 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1958
81 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1946
80 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1893
79 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1878
78 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1828
77 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1783
76 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1770
75 터보펌프 에러관련 [1] 1737
74 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1696
73 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1637
72 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1471
71 Ar plasma power/time [1] 1429
70 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1417
69 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1399
68 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1365
67 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1352
66 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1289
65 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1287
64 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1267
63 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234

Boards


XE Login