Plasma in general RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상
2018.11.22 16:01
안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.
다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.
RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.
초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.
1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?
2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76538 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91694 |
684 | OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] | 728 |
683 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 950 |
682 | RF Sputtering Target Issue [2] | 569 |
681 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 592 |
680 | PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] | 1782 |
679 | plasma striation 관련 문의 [1] | 461 |
678 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 536 |
677 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 617 |
676 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 535 |
675 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1121 |
674 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1118 |
673 | Plasma Arching [1] | 1024 |
672 | Polymer Temp Etch [1] | 634 |
671 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 971 |
670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 455 |
669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1383 |
668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1118 |
667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 437 |
666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 808 |
665 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 862 |
스퍼터 문제에 대해서 아마도 군산대학교 주정훈교수님께 문의하시면 좋을 답변을 얻으실 수 있을 것 같습니다. 문의드려 보시고, 얻게되는 답변이 있으면 본 란에 댓글로 올려 주시면 고맙겠습니다.