안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
683 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 955
682 RF Sputtering Target Issue [2] file 573
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 592
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1786
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 462
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 538
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 536
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1122
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1119
673 Plasma Arching [1] 1025
672 Polymer Temp Etch [1] 635
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 973
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 456
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1384
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1124
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 437
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 809
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 868
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 799

Boards


XE Login