교수님, 안녕하세요.


반도체 회사에서 공정 개발을 하는 연구원입니다.

교수님께 ESC Chuck 의 활용(?) 에 관한 질문을 드리고자 글 남기게 되었습니다.


현재 ICP Coil 을 이용하여 reactant gas 를 radical 로 만들어서 wafer 위에서 반응을 유도하고 있습니다.

하지만, 현재 chamber 조건이 공정상 몇 가지 단점을 갖고 있어 이를 개선하려는 업무를 진행 중 의문이 생겼습니다.

개선을 위한 condition (온도, 압력) 에서는 화학흡착 즉, chemisorpsion 이 되지 않는 결과를 확인하였습니다.

(온도, 압력만 변화. 관련 논문도 확인)


이를 극복하는 방안으로, ESC Chuck 을 사용하여, radical 을 강하게 wafer 로 끌어오면 어떨가 하는데,

가장 큰 고민이, boosted radical 이 wafer 에서 물리적 가속외에 화학적 흡착에도 영향을 줄 수 있다는 근거를 찾기가 어렵습니다.


혹, 교수님께서 관련해서 조언해주실 수 있으시면 업무에 큰 도움이 될 것 같습니다.


감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
683 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 951
682 RF Sputtering Target Issue [2] file 570
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 592
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1783
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 461
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 537
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 535
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1122
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1119
673 Plasma Arching [1] 1025
672 Polymer Temp Etch [1] 635
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 973
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 455
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1383
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1118
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 437
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 808
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 865
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 799

Boards


XE Login