안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92277
689 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 544
688 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 544
687 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 546
686 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 549
685 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 550
684 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 550
683 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 558
682 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 561
681 핵융합 질문 [1] 567
680 활성이온 측정 방법 [1] 572
679 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 575
678 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 576
677 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 579
676 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585
675 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
674 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 588
673 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 589
672 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 592
671 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 593
670 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 596

Boards


XE Login